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北海道大学電子科学研究所
『利用可能な施設及び設備』

北海道大学電子科学研究所『利用可能な施設及び設備』

電子科学研究所所属の共通機器です。ご利用の際はセンターにご相談ください。

<ニコンイメージングセンター>

※ 以下の機器はニコンイメージングセンター登録機器です。ニコンイメージングセンター経由でのご利用をお願いします。

管理組織 登録設備等名
ニコンイメージングセンター
  • 顕微鏡室
    • Station-1: 高速共焦点顕微鏡
    • Station-2: 全反射蛍光顕微鏡(TIRF)
    • Station-3: 多色蛍光タイムラプス顕微鏡
    • Station-4: リアルタイム共焦点顕微鏡
    • 日本分光: 自動蛍光偏光解消装置 FP-715
    • 東海ヒット: 顕微鏡ステージ温度制御システム MATS-505R30, チューブヒーター TP-TH, バイオリサーチ用温度計 TSU-0125
    • 浜松ホトニクス: 灌流チャンバー A8819
  • データ解析室
    • 浜松ホトニクス: 画像解析 ソフトウェア AquaCosmos
    • 日本モレキュラーデバイス: 画像解析ソフトウェア MetaMorph, 蛍光分離ソフトウエア PrizMage
    • 日本ローパー: 画像解析ソフトウェア ImagePro Plus
    • ソリューションシステムズ: 画像解析ソフトウェア Huygens
  • 細胞培養室
    • ニコン: 倒立顕微鏡 TE-300(位相差観察が可能)
    • espec: CO2 インキュベータ (炭酸ガス濃度: 5%)
    • AIRTECH: クリーンベンチ

<オープンファシリティ>

※ 以下の機器はオープンファシリティー登録機器です。オープンファシリティー経由でのご利用をお願いします。

設備(設備群)名 仕様
超高精度電子ビーム描画装置 エリオニクス社製: ELS-F125
  • 加速電圧: 125kV
  • 試料サイズ: 最大 6インチ
超高精度電子ビーム描画装置 エリオニクス社製: ELS-7000HM
  • 加速電圧: 100kV
  • 試料サイズ: 最大 6インチ
超高速スキャン電子線描画装置 エリオニクス製: ELS-F130HM
  • 加速電圧: 130kV
  • 試料サイズ: 最大 8インチ
マスクアライナ ミカサ社製: MA-20
  • コンタクト露光
  • 試料サイズ: 最大 4インチ
  • マスクサイズ: 最大 5インチ
レーザー直接描画装置 ネオアーク社製: DDB-201
  • 光源: 375nm 半導体レーザー
  • 描画エリア: 最大 50mm
  • 試料サイズ: 最大 6インチ
真空蒸着装置 サンバック社製: ED-1500R
  • 蒸着源: 抵抗加熱3元、EB3元
  • 基板加熱可
プラズマCVD装置 サムコ社製: PD-220ESN
  • 試料種類:SiO2、SiN
  • 試料サイズ: 最大 4インチ
液体ソースプラズマCVD装置 サムコ社製: PD-10C1
  • 試料種類: SiO2
  • キャリアガス: N2, He, Ar, H2
  • 試料サイズ: 最大 3インチ
ヘリコンスパッタリング装置 アルバック社製: MPS-4000C1/HC1
  • 試料種類: 3元、Au, Ag, Cr, Ti, SiO2
  • 試料サイズ:最大 4インチ
イオンビームスパッタ装置 アルバック社製: IBS-6000
  • 試料種類: 4元、Ni, Cr, SiO2、W-Si 他
  • 試料サイズ: 最大 3インチ
原子層堆積装置 ピコサン社製: SUNALE-R
  • 試料種類: SiO2、TiO2、Al2O3、Nb 他
  • 試料サイズ: 最大 6インチ
ICPドライエッチング装置(シリコン深掘り) 住友精密社製: SPM-200
  • 使用ガス: SF6,C4F8、CF4、Ar、O2、CH4
  • 試料サイズ: 最大 4インチ
ICP高密度プラズマエッチング装置 サムコ社製: RIE-101iPH
  • 使用ガス: SF6,C4F8、 CF4、 Ar、 O2、 CHF3、 C3F8
  • 試料サイズ: 最大4インチ
ICP高密度プラズマエッチング装置 サムコ社製: RIE-101iHS
  • 使用ガス: Xe、Ar、O2、SiCl4、Cl2
  • 試料サイズ: 最大4インチ
反応性イオンエッチング装置 サムコ社製: RIE-10NRV
  • 使用ガス: CF4、Ar、O2、CHF3
  • 試料サイズ: 最大 8インチ
ドライエッチング装置 アルバック社製: NLD-500
  • 使用ガス: SF6、 C4F8、 CF4、 CHF3,Ar、 O2、 C3F8
  • 試料サイズ: 最大 4インチ
イオンミリング装置 アルバック社製: IBE-6000S
  • 使用ガス: Ar
  • 試料サイズ: 最大 4インチ
真空紫外露光装置 エヌ工房: フォトクリエーターPC-01-H
  • 試料サイズ: 最大 2インチ
コンパクトスパッタ装置 アルバック製:ACS-4000-C3-HS
  • 試料種類: SiO2、Au,Cr 等
  • 基板サイズ: 10mm~4インチ(リフトオフ仕様では25mm角まで)
  • 基板加熱機構有り(~550°C)
半導体薄膜堆積装置 パスカル製: パルスレーザー堆積装置
  • レーザー光源: 248nm
  • 基板サイズ: 最大 2インチ
  • 成膜材料: TiO2,STO など
  • RHEED 装備
収差補正走査型透過電子顕微鏡 日本電子製: JEM-ARM200F
  • 加速電圧: 80kV、200kV
  • 分析機能: EDS,ELLS
  • STEM 収差補正機能
超薄膜評価装置(走査型透過電子顕微鏡) 日立ハイテク製 HD-2000
  • 加速電圧: 200kV
  • 分析機能: EDS, EELS
集束イオンビーム加工装置 日立ハイテク製 FB-2100
  • 加速電圧: 10kV~40kV
  • 3次元ホルダー及びコントローラー
  • マイクロサンプリング機構あり
イオン研磨装置 Gatan 製 PIPSII
  • 加速電圧 0.1kV~6kV
  • 試料冷却ステージ
X線光電子分光装置 日本電子製 JPS-9200
  • 標準X線源 Mg/Al ツインアノード
  • モノクロX線源
  • 分解能 0.65eV(モノクロX線源)
時間分解光電子顕微鏡システム Elmitec 社製 PEEM+フェムトレーザー社 Rainbow
  • 空間分解能: 4nm
  • 時間分解能: 7fs 以下
  • 収差補正機能付き
高分解能X線回折装置 ブルカー製 D8 Discover
  • 2次元検出器(Hi-star)装備
粉末X線回折装置 リガク製 RINT-2000
  • 低温ユニット有り
高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡 日本電子社製: JSM-6700FT
  • EDS 機能、2 探針マイクロプローブ装備
  • 試料サイズ:小片~25mm 角
太陽電池評価システム ワコム電創社製: WXS-156S-L2,AM1.5GMM
  • JIS、IEC規格準拠 CLASS AAA
  • 照射強度: 1(sun)
  • 基板サイズ: 最大 6インチ
紫外可視近赤外分光光度計 パーキンエルマー製 Lambda900
  • 反射測定ユニットあり
赤外分光光度計(FT-IR) 日本分光 FT-IR660
  • 真空ユニット、多重反射 ATR、RAS ユニット、液体セル装備
原子間力顕微鏡 JEOL 製 JSPM-4200
多光子励起共焦点レーザー走査型多機能顕微鏡システム オリンパス FV300-TP2-SK
  • スペクトラ・フィジックス MaiTai-HSS-E