| 日時 | 平成27年6月26日(金) 14:00–15:00 |
|---|---|
| 場所 | 北海道大学電子科学研究所 1階セミナー室1-2 |
| 講演者 | 神谷利夫 氏 |
| 所属等 | 東京工業大学 応用セラミックス研究所・教授 |
| タイトル | 酸化物新材料の物性と応用: IGZOと先端ディスプレイを例に |
| 概要 |
酸化物は、1990年代後半に多結晶ZnO薄膜トランジスタ(TFT)により再び新半導体材料として注目され始めた。その後、2004年にアモルファス酸化物半導体(AOS)であるa-In-Ga-Zn-O(a-IGZO)を半導体として用いたTFTが発表され、2012年からシャープのモバイルディスプレイに実用化された。現在では、77型の有機ELTV、超高解像度のスマホ、iMacの27″5Kディスプレイなどに実用化されている。 本講義では最初に、最近のディスプレイ技術を概観する。液晶ディスプレイの動作原理から始まり、必要な部品 —LEDバックライト、液晶、TFT、カラーフィルター— に使われている材料について、酸化物材料との関係をを見直す。ディスプレイの高解像度、広色域化の工夫について、有機EL、量子ドットディスプレイ、などとの関係を考える。新しいディスプレイとして、MEMSディスプレイも紹介する。次に、AOSの特長を整理し、なぜAOS TFTがディスプレイ駆動用TFTとして優れた特性を示すのか、上記の先端ディスプレイ、フレキシブルディスプレイ、透明ディスプレイとの関係で議論し、ディスプレイ以外の応用も紹介する。最後に、当研究室で進めている新無機機能材料研究について紹介する。 |
| 主催 | 電子科学研究所学術交流委員会 |
| 共催 | 応用物理学会北海道支部 |
| 連絡先 | 電子科学研究所 薄膜機能材料研究分野 太田裕道、片瀬貴義((内)9432) |
| 備考等 |
2004年の発明から10年経過した現在、従来のTFTに代わる高性能TFTとして、酸化物TFTが多く実用化されるようになりました。下記に公開情報を列挙しますので、興味を持たれた方は是非本講演会に足をお運びください。
なお、参加者人数を把握するため、参加予定の方は、katase@es.hokudai.ac.jpまでご連絡頂けると幸いです。 大変お手数をお掛けしますが、よろしくお願い致します。 |
News & Events
酸化物新材料の物性と応用: IGZOと先端ディスプレイを例に
掲載日：
講演会
