先進フォトニクスデバイス・プロセス技術セミナー

以下の様に、サブ波長光学およびナノインプリントプロセスに関するセミナーを開催致します。先進フォトニクスデバイスの原理、作製プロセス、応用事例に関する概要を第一線の研究者によってわかりやすく説明してもらいます。

1. 「サブ波長構造をもつ光学素子の現状と課題」 大阪府立大学　菊田久雄

   光の波長より短い周期を持つ光学素子の研究は1990年代から行われ、原理検証とともに様々な応用が提案されてきた。近年では実用化のための技術開発がなされ、一部、実用化に至っている素子もある。セミナーでは、サブ波長構造をもつ光学素子の現状を俯瞰し、今後の課題について述べる。

2. 「次世代型システム集積における光配線への期待」 京都工芸繊維大学　裏 升吾

   LSIチップを表面実装して大容量信号接続する次世代型システム集積における信号接続に供する配線形態について概略比較する。その中で、魅力ある配線形態として波長多重光配線方式に着目し、キーとなる空間光アドドロップ機能を有する導波路素子の可能性と課題について述べる。

3. 「ナノインプリントの応用展開と可能性」 大阪府立大学　平井義彦

   ナノインプリントプロセスは、樹脂シートへのロールインプリントが注目されつつあり、その他にもニーズが多様化している。本講演では、ナノインプリント技術の現状と将来展開について、国内外の企業の動向も含めて概説する。