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受賞
片瀬 助教(薄膜機能材料研究分野)が日本セラミックス協会電子材料部会 第34回エレクトロセラミックス研究討論会(平成26年10月24日–25日に東京工業大学で開催)で優秀賞を受賞しました。この賞は、公益社団法人日本セラミックス協会電子材料部会が主催する研究討論会で優れた発表を行った若手研究者を表彰するものです。
講演題目「VO2薄膜トランジスタの電解誘起水素化と金属-絶縁体相転移制御」著者(北大電子研)○片瀬貴義,遠藤賢司,太田裕道
